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冯新亮团队Angew.: 具有轴向氧配体的五配位Zr助力ORR
马普所冯新亮等人报道具有非常规轴向 O 配体的五配位 Zr 基单原子催化剂(SAC)用于氧还原反应 (ORR)。研究发现,O 配体降低了 Zr 的 d 带中心,赋予 Zr 位点具有稳定的局部结构和适当的中间体吸附能力。因此,O-Zr-N-C 的 ORR 性能显著优于商业 Pt/C,实现半波电位为了 0.91V vs.RHE和出色的耐用性(运行 130 h后电流保持率达 92%)。此外,Zr 位点具备出良好的抗聚集性,因此能够合成高负载量(9.1 wt%)的 Zr 基 SAC。
密度泛函理论 (DFT) 计算探索 Zr 的局部配位环境如何决定催化机理。首先,DFT研究传统的平面内四配位 Zr 结构(即 Zr-N4-n-Cn,n = 0、2 和 3)。所有Zr-N4-n-Cn结构显示出对含氧中间体的极强的吸附(结合能 > 4 eV),这表明催化反应最后一步 OH* 解吸的能量过高,导致 ORR 活性差;同时,O-中间体的强吸附能反映了平面内四配位Zr连接另一个轴向O配体的趋势。因此,我们计算Zr-N4-n-Cn和 O 配体连接的Zr-N4-n-Cn的形成能(ΔEf)(表示为 O- Zr-N4-n-Cn,n = 0、2 和 3)。
发现O-Zr-N4-n-Cn的ΔEf明显低于Zr-N4-n-Cn,其中,O-Zr-N4 为 -9.22 eV,O-Zr-N2-C2 为 -6.12 eV,O-Zr-N1-C3 为 -3.93 eV,而Zr-N4 为 -3.08 eV,Zr-N2-C2 为 0.68 eV,Zr-N1-C3 为 0.84 eV,表明O-Zr-N4-n-Cn结构比Zr-N4-n-Cn在能量上更有利。O-Zr-N4-n-Cn的低形成能也反映O-Zr-N-C催化剂中五配位Zr位点的优异化学稳定性。进一步计算 O-Zr-N4-n-Cn的 ORR Gibbs 自由能分布。发现O-Zr-N1-C3催化的OH*脱附能为0.49 eV,而Zr-N1-C3催化剂展现出5.32 eV的高脱附能。ORR活性依次为O-Zr-N1-C3 > O-Zr-N4 > O-Zr-N2-C2,过电位分别为0.55 V、0.62 V和0.87 V。
进一步研究Zr金属中心的d带电子结构。发现轴向O配体将Zr-N1-C3的d带中心从-1.27 eV显著降低到-2.50 eV,从而解释O-中间体在O-Zr-N1-C3上的吸附能减弱。此外,O-Zr-N1-C3 中 Zr(0.41 e–)的 Bader 电荷低于 Zr-N1-C3 中 Zr(0.55 e–),表明由于轴向 O 配体的吸电子特性,O-Zr-N1-C3 中O 和 Zr 之间存在额外的电荷转移。O-Zr-N1-C3 中的较低电荷进一步表明 Zr 和含 O 中间体之间的相互作用较弱,使 OH* 更容易从催化剂表面脱附。
Xia Wang, Yun An et al. Atomically Dispersed Pentacoordinated-Zirconium Catalyst with Axial Oxygen Ligand for Oxygen Reduction Reaction. Angew. Chem. Int. Ed. 2022, e202209746
https://doi.org/10.1002/anie.202209746
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